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應(yīng)用光學(xué)

主管單位：中國(guó)兵器工業(yè)集團(tuán)公司
主辦單位：中國(guó)兵工學(xué)會(huì)　中國(guó)兵器工業(yè)第二0五研究所
ISSN：1002-2082CN：61-1171/O4
地址：西安市電子城電子三路西段9號(hào)（西安123信箱)
郵政編碼：710065


《應(yīng)用光學(xué)》2003年2期目錄

  • 偶氮接枝的聚氨酯薄膜作為光存儲(chǔ)介質(zhì)的實(shí)驗(yàn)研究

    楊文正，陳烽，易文輝，楊青，侯洵  論文QQ81995535 

  • 替代柱面透鏡的二元光學(xué)元件設(shè)計(jì)

    張良

  • 雙參考光半導(dǎo)體調(diào)頻距離測(cè)量

    劉曉彬，何俊發(fā)，王紅霞，姜娜

  • 機(jī)載紅外干擾彈的設(shè)計(jì)研究

    侯振寧

  • 真空殘氣對(duì)GaAs陰極發(fā)射性能的影響

    徐江濤

  • 制導(dǎo)光纖1550 nm波長(zhǎng)微彎損耗成因分析

    蔡春平，高秀敏

  • 光纖Bragg光柵應(yīng)變、溫度交叉敏感問(wèn)題解決方案

    焦明星，趙恩國(guó)

  • CCD輸出信號(hào)偏差的分析與校正

    孫玉杰，汪岳峰，牛燕雄

  • 光電經(jīng)緯儀動(dòng)力學(xué)模型分析

    周軍，車雙良，劉國(guó)榮，朱麥花，張興社，戴岳坤

  • 線陣CCD測(cè)徑裝置的設(shè)計(jì)

    孫釗，高愛(ài)華，田愛(ài)玲

  • Ce∶YIG石榴石薄膜制備條件對(duì)磁光性能的影響

    王巍，蘭中文，張懷武，王豪才

  • 光學(xué)零件鍍膜后光潔度與牢固度的探討

    王冰

  • 光輻射計(jì)量測(cè)試技術(shù)

    楊照金，范紀(jì)紅，岳文龍，侯西旗，占春連，秦艷

  • 光學(xué)傅里葉分析的測(cè)厚應(yīng)用

    張緒寬，張祖全，柯璇

  • 矢量分析在反射和折射中的應(yīng)用

    劉漢臣，唐遠(yuǎn)河
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