| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN1305853C |
| 公開(kāi)(公告)日 | 2007.03.21 |
| 申請(qǐng)(專利)號(hào) | CN03802740.2 |
| 申請(qǐng)日期 | 2003.01.30 |
| 專利名稱 | HMG輔酶A還原酶抑制劑的制備方法 |
| 主分類號(hào) | C07D215/14(2006.01)I |
| 分類號(hào) | C07D215/14(2006.01)I;C07D405/06(2006.01)I;C07D209/18(2006.01)I;C07B53/00(2006.01)I |
| 分案原申請(qǐng)?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2002.1.31 US 60/353,787 |
| 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 諾瓦提斯公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人 | M·阿克莫格魯;B·里斯 |
| 地址 | 瑞士巴塞爾 |
| 頒證日 | |
| 國(guó)際申請(qǐng) | 2003-01-30 PCT/EP2003/000954 |
| 進(jìn)入國(guó)家日期 | 2004.07.26 |
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 北京市中咨律師事務(wù)所 |
| 代理人 | 黃革生;隗永良 |
| 國(guó)省代碼 | 瑞士;CH |
| 主權(quán)項(xiàng) | 一種制備對(duì)映純形式或外消旋形式的式(I)化合物或其鹽或其內(nèi)酯的方法， 其中部分代表-CH2-CH2-或-CH＝CH-，且R代表環(huán)狀基； 該方法包括 (a)使式(IIIa)或(IIIb)化合物與金屬化烷烴反應(yīng)形成相應(yīng)的內(nèi)鎓鹽，然后使得到的內(nèi)鎓鹽中間體與式(IIIc)化合物反應(yīng)，其中所述式(IIIa)或(IIIb)化合物為： 其中X4和X5彼此獨(dú)立地代表C1-C7烷基或苯基-C1-C7烷基； X6，X7和X8彼此獨(dú)立地代表未取代的或被選自下列的一個(gè)或多個(gè)取代基取代的苯基：C1-C7烷基、羥基、C1-C7烷氧基、C2-C8烷酰氧基、鹵素、硝基、氰基和CF3；Hal代表鹵化物陰離子； 其中所述式(IIIc)化合物為： 其中 X代表醚化羥基、酯化羥基、未取代或一取代或二取代的氨基，其中，在一或二取代的氨基中，氨基為彼此獨(dú)立地被選自下列的基團(tuán)一取代或二取代的：C1-C7烷氧基、C1-C7烷基、芳基-C1-C7烷基、C3-C8-環(huán)烷基、C3-C8-環(huán)烷基-C1-C7烷基； X1為被保護(hù)羥基； X2代表C1-C7烷基；以及 X3代表氫或一個(gè)或多個(gè)取代基，所述取代基選自C1-C7烷基、羥基、C1-C7烷氧基、C2-C8烷酰氧基、鹵素、硝基、氰基和CF3； (b)任選地，將所得的式(IIId)化合物轉(zhuǎn)化為式(IIIe)化合物，其中所述式(IIId)化合物為 其中X1，X2和X3具有上述定義的意義，Y代表式(X4O)(X5O)P(＝O)-或(X6)(X7)(X8)P+Hal-，且X4，X5，X6，X7，X8和Hal-具有上述定義的意義； 其中所述式(IIIe)化合物為 其中X2，X3和Y具有上述定義的意義且其中Y1代表羥基或被保護(hù)羥基，Y2為氫和Y3為羥基或被保護(hù)羥基，并且Y1和Y3形成順式二醇構(gòu)型；或其中Y1和Y3一起代表-O-Alk-O-且Alk為Ci-C7亞烷基，并且Y2為氫，Y1和Y3形成順式二醇構(gòu)型； (c)使其中X2，X3和Y具有上述定義的意義且其中Y1代表羥基或被保護(hù)羥基，Y2為氫且Y3為羥基或被保護(hù)羥基，并且Y1和Y3形成順式二醇構(gòu)型；或其中Y1和Y3一起代表-O-Alk-O-且Alk為C1-C7亞烷基，并且Y2為氫，Y1和Y3形成順式二醇構(gòu)型；或其中Y1和Y2一起代表氧代基且Y3代表被保護(hù)羥基的式(IIIe)化合物與式(IIIf)的醛R-CH(＝O)反應(yīng)形成式(IIIg)化合物 其中R，X2，X3，Y1，Y2和Y3以及部分具有上述定義的意義； 任選的，還原其中部分為-CH＝CH-的式(IIIg)相應(yīng)化合物，以形成其中所述部分為-CH2-CH2-的化合物； 以及 (d)當(dāng)?shù)玫竭@樣的式(IIIg)化合物，其中Y1和Y3中的一個(gè)為被保護(hù)羥基另一個(gè)為羥基或Y1和Y3都是被保護(hù)羥基，且在各種情況下Y2為氫；并且Y1和Y3形成順式構(gòu)型；或 Y1和Y3一起代表-O-Alk-O-且Alk為C1-C7亞烷基；并且Y1和Y3形成順式構(gòu)型；并且Y2為氫； 通過(guò)去除羥基保護(hù)基得到了下式化合物 任選的，還原其中部分為-CH＝CH-的式(IIIh)相應(yīng)化合物，以形成其中所述部分為-CH2-CH2-的化合物； (e)當(dāng)?shù)玫竭@樣的式(IIIg)化合物，其中Y1和Y2一起形成氧代基＝O，并且Y3為被保護(hù)羥基(X1)；通過(guò)除去羥基保護(hù)基將所述式(IIIg)化合物轉(zhuǎn)化為式(IIIi)化合物，然后將所述式(IIIi)化合物還原為式(IIIh)化合物，其中式(IIIi)化合物為 其中R，X2，X3和部分具有上述定義的意義； (f)將式(IIIh)化合物水解為式(I)化合物或其鹽以及， (g)分離形成的式(I)化合物或其鹽； 并且，任選的，將形成的式(I)游離酸分別轉(zhuǎn)化為其鹽或轉(zhuǎn)化為式(Ia)或(Ib)內(nèi)酯，或?qū)⑿纬傻氖?Ia)或(Ib)內(nèi)酯轉(zhuǎn)化為式(I)的酸或其鹽， 其中式(Ia)或(Ib)內(nèi)酯為 其中相應(yīng)的環(huán)狀基R是選自下列的環(huán)狀基 |
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種制備式(I)化合物或其鹽，特別是其與堿形成的可藥用鹽，或其內(nèi)酯的方法，其中部分代表-CH2-CH2-或-CH＝CH-且R代表環(huán)狀基。 |
| 國(guó)際公布 | 2003-08-07 WO2003/064392 英 |
