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紫外線屏蔽性貼劑

公開(公告)號 CN100366240C  
公開(公告)日 2008.02.06  
申請(專利)號 CN200480012391.3  
申請日期 2004.05.07  
專利名稱 紫外線屏蔽性貼劑  
主分類號 A61K9/70(2006.01)I  
分類號 A61K9/70(2006.01)I;A61K47/22(2006.01)I;A61K47/32(2006.01)I;A61K45/00(2006.01)I;A61K31/192(2006.01)I;A61P29/00(2006.01)I  
分案原申請?zhí)?  
優(yōu)先權(quán) 2003.5.7 JP 128934/2003  
申請(專利權(quán))人 久光制藥株式會社  
發(fā)明(設(shè)計(jì))人 橋本好明;高田恭憲;鶴田清美  
地址 日本佐賀縣  
頒證日  
國際申請 2004-05-07 PCT/JP2004/006024  
進(jìn)入國家日期 2005.11.07  
專利代理機(jī)構(gòu) 永新專利商標(biāo)代理有限公司  
代理人 陳建全  
國省代碼 日本;JP  
主權(quán)項(xiàng) 一種貼劑,其包含聚酯類支持體和在該聚酯類支持體的一面上設(shè)置的含有非甾體類抗炎藥物的粘合劑層,其中所述支持體含有以通式(1)所示的羥基苯基苯并三唑衍生物, 式中,R1和R2可以相同或不同,是氫或C1~C4的烷基。  
摘要 本發(fā)明的目的在于提供即使在直射太陽光線時,藥物也不會光分解,且充分顯示藥效,同時制劑的物性和安全性優(yōu)異的貼劑。本發(fā)明提供一種貼劑,其包含聚酯類支持體和在該聚酯類支持體的一面上設(shè)置的含有非甾體類抗炎藥物(NSAID)的粘合劑層,其中所述支持體含有以通式(1)所示的羥基苯基苯并三唑衍生物,式中,R1和R2可以相同或不同,是氫或C1~C8的烷基,X是鹵原子。  
國際公布 2004-11-18 WO2004/098575 日  
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