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喜樹堿衍生物及其制備

公開(公告)號 CN100339377C  
公開(公告)日 2007.09.26  
申請(專利)號 CN200510098743.8  
申請日期 2005.09.05  
專利名稱 喜樹堿衍生物及其制備  
主分類號 C07D471/22(2006.01)I  
分類號 C07D471/22(2006.01)I;C07D221/00(2006.01)I;C07D209/00(2006.01)I;A61K31/47(2006.01)I;A61P35/00(2006.01)I  
分案原申請?zhí)?  
優(yōu)先權(quán)  
申請(專利權(quán))人 合肥中科大生物技術(shù)有限公司  
發(fā)明(設計)人 尤田耙;王宗貴;耿 燕;李明宗  
地址 230027安徽省合肥金寨路96號  
頒證日  
國際申請  
進入國家日期  
專利代理機構(gòu) 北京華科聯(lián)合專利事務所  
代理人 王 為  
國省代碼 安徽;34  
主權(quán)項 一種結(jié)構(gòu)如下式的喜樹堿衍生物 其中: R1代表9、10或11-位上的0-3個相同或不同的取代基,這些取代基選自鹵原子、羥基或烷氧基; R2代表C2-C5的直鏈或支鏈亞烷基; R3代表氫原子或R4CO-,R4代表低級烷基、低級烷氨基亞烷基或低級烷氧基亞烷基;選自-CH3、-(CH2)nCH3、-(CH2)nOCH3、-(CH2)nNHCH3、-(CH2)nN(CH3)2,其中n=1-3; Y代表堿性雜環(huán)基或氫化的堿性雜環(huán)基,選自咪唑,吡啶,嘧啶,吡嗪,哌啶、哌嗪、嗎啉。  
摘要 本發(fā)明提供(1)式所代表的喜樹堿衍生物及其制備,其中R1代表9,10,11-位上的0-3個相同或不同的取代基,這些取代基包括鹵原子、羥基、烷氧基;R2代表C2-C5的直鏈或支鏈亞烷基;R3代表氫原子或R4CO-,其中R4代表低級烷基、低級烷氨基烷基或低級烷氧基烷基;Y代表雜環(huán)堿基或氫化雜環(huán)堿基,本發(fā)明還包括制備式(1)各化合物的方法和將它們用于治療癌癥的用途。  
國際公布  
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